标签 > 佳能发售KrF半导体光刻机“FPA-6400ES6a” 实现高生产率和业界高水平套刻精度

佳能于 2026 年 11 月 10 日正式发布 KrF（248 nm）扫描式光刻机 FPA-6400ES6a，计划在 12 月上旬出货，面向存储、逻辑芯片量产